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    GCK-Si 硅片

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    GCK-Si 硅片

    本单详情

    GCK-Si硅片:

    硅窗口片的透过范围是1.2μm-8μm,主要用于6μm以内的红外窗口片和光学滤光片的基片。由于该材料导热性能好、密度低,也是制作激光反射镜的常用材料。主要用于PVD/CVD镀膜做衬底用作XRD(X射线衍射分析)、SEM(扫描电镜)、AFM(原子力显微镜)、FTIR红外、荧光光谱等分析测试基底;同步辐射实验样品载体;分子束外延生长的基底;半导体光刻工艺等。


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